工程金属和有机骨架晶体的缺陷和空间化学不均匀性

达里奥费雷拉桑切斯(Dario Ferreira Sanchez)，瑞士保罗谢尔研究所的瑞士光源，通过全场色谱X射线吸收光谱揭示了工程金属和有机框架晶体的缺陷和空间化学不均匀性。相关研究成果最近发表于《德国应用化学》。

通过部分使用有缺陷的连接器在金属有机框架(mof)中引入结构缺陷逐渐成为改善现有MOF性能的一种手段。这些缺乏协调片段的连接器产生了不饱和的框架节点，这可能会改变MOF的性能。为了准确地应用这种方法，需要了解缺陷工程MOF的结构。

在这篇论文中，研究人员表明，全场x光吸收近边缘结构计算机断层扫描技术可以帮助人们提高认识。这是通过观察在缺陷工程HKUST-1多面体晶体中发现的化学不均匀性来证明的。发现缺陷接头的不均匀结合和分区导致了HKUST-1中第二配位聚合物簇的存在。前者被认为是改变多壁障性能的部分原因，因此有必要在空间化学中对多壁障进行分析和表征。

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